Iwwersiicht iwwer Photoresist
Photoresist, och bekannt als Photoresist, bezitt sech op en dënnfilmmaterial, deem seng Léislechkeet sech ännert wann et UV-Liicht, Elektronestralen, Ionenstralen, Röntgenstralen oder aner Stralung ausgesat ass.
Et besteet aus engem Harz, engem Photoinitiator, engem Léisungsmëttel, engem Monomer an aneren Zousätz (kuckt Tabelle 1). Photoresisharz a Photoinitiator sinn déi wichtegst Komponenten, déi d'Leeschtung vum Photoresist beaflossen. Et gëtt als Antikorrosiounsbeschichtung während dem Photolithographieprozess benotzt.
Bei der Veraarbechtung vun Hallefleederoberflächen kann d'Benotzung vun engem entspriechend selektive Photoresist dat gewënschte Bild op der Uewerfläch erstellen.
Tabelle 1.
| Zutaten fir Photoresist | Leeschtung |
| Léisungsmëttel | Et mécht Photoresist flësseg a volatil, an huet bal keen Afloss op déi chemesch Eegeschafte vum Photoresist. |
| Fotoinitiator | Et ass och bekannt als Photosensibilisator oder Photohärtungsmëttel, an ass déi photosensitiv Komponent a Photoresistmaterial. Et ass eng Zort Verbindung, déi a fräi Radikale oder Kationen zerleet ka ginn an chemesch Vernetzungsreaktiounen a Monomeren ausléise kann, nodeems se ultraviolett oder siichtbar Liichtenergie vun enger bestëmmter Wellelängt absorbéiert huet. |
| Harz | Et ass inert Polymer, a wierkt als Bindemittel fir déi verschidde Materialien an engem Photoresist zesummen ze halen, wat dem Photoresist seng mechanesch a chemesch Eegeschafte gëtt. |
| Monomer | Et ass och bekannt als aktiv Verdënnungsmëttel, si kleng Molekülle mat polymeriséierbare funktionelle Gruppen a si Verbindungen mat nidderegem Molekulargewiicht, déi u Polymerisatiounsreaktiounen deelhuele kënnen, fir Harzer mat héijem Molekulargewiicht ze bilden. |
| Zousaz | Et gëtt benotzt fir déi spezifesch chemesch Eegeschafte vu Photoresisten ze kontrolléieren. |
Photoresisten ginn no dem Bild, dat se bilden, an zwou Haaptkategorien agedeelt: positiv an negativ. Wärend dem Photoresistprozess, no der Beliichtung an der Entwécklung, léisen sech déi beliicht Deeler vun der Beschichtung op, wouduerch déi net beliicht Deeler iwwreg bleiwen. Dës Beschichtung gëllt als positive Photoresist. Wann déi beliicht Deeler bleiwen, während déi net beliicht Deeler opgeléist sinn, gëllt d'Beschichtung als negativen Photoresist. Ofhängeg vun der Beliichtungsliichtquell an der Stralungsquell ginn Photoresisten weider kategoriséiert als UV (inklusiv positiv an negativ UV-Photoresisten), déif UV (DUV) Photoresisten, Röntgenphotoresisten, Elektronestrahlphotoresisten an Ionenstrahlphotoresisten.
Photoresist gëtt haaptsächlech bei der Veraarbechtung vu feinkärege Musteren an Displaypanelen, integréierte Schaltungen an diskrete Hallefleiterkomponenten benotzt. D'Produktiounstechnologie hannert Photoresist ass komplex, mat enger breeder Palette vu Produkttypen a Spezifikatiounen. D'Produktioun vun integréierte Schaltungen an der Elektronikindustrie stellt streng Ufuerderungen un de benotzte Photoresist.
Ever Ray, e Produzent mat 20 Joer Erfahrung spezialiséiert op d'Produktioun an d'Entwécklung vu photohärtbaren Harzer, kann op eng jäerlech Produktiounskapazitéit vun 20.000 Tonnen, eng ëmfaassend Produktlinn an d'Méiglechkeet fir Produkter unzepassen, zielen. Am Photoresist huet Ever Ray 17501-Harz als Haaptkomponent.
